Kaip minėta pirmiau, viena iš pagrindinių Silane Coupling agento panaudojimo yra neorganinių organinių polimerų užpildų apdorojimas. Pastaruoju metu veikiant "Silane Coupling agent", jis gali paversti savo hidrofilinį paviršių susituokusį organinį stalo paviršių, kuris gali išvengti dalelių susikaupimo ir aštrio geliuoto polimero sistemoje, taip pat gali pagerinti organinio polimero drėkinimą, siekiant sutvirtinti užpildą, naudojant anglies funkcinį šlaną, kuris vis dar gali būti sustiprinantys užpildai ir polimerinis kietas sujungimas.
Tačiau Silane jungiamosios medžiagos poveikis taip pat yra susijęs su silane jungiamosios medžiagos rūšimi ir kiekiu, pagrindo charakteristikomis, dervos ar polimero savybėmis, taikymo atvejais, metodais ir sąlygomis. Šiame skyriuje daugiausia dėmesio skiriama dviem Silane Coupling agento, paviršiaus apdorojimo ir integruoto maišymo būdais. Pirmasis metodas yra substrato paviršiaus apdorojimas Silano jungiamosios medžiagos atskiestu tirpalu. Pastarasis metodas yra Silano jungiamosios medžiagos tirpalo arba tirpalo pridėjimas į mišinį, sudarytą iš polimerų ir užpildų, kuris ypač taikomas medžiagų sistemai, kurią reikia maišyti ir sumaišyti.
Sileanų jungties agento sąnaudų skaičiavimas
Reaktyvių taškų skaičius vienam tam tikram apdoroto pagrindo paviršiaus plotui ir silane jungiamojo agento dengiamojo paviršiaus storis yra pagrindiniai veiksniai, skirti nustatyti sukibimo agentų kiekį, reikalingą substrato paviršiaus silikonizavimui. Siekiant gauti monomolekulinę dangą, nustatytas Si-OH kiekis matricoje. Žinoma, dauguma silicio substrato, kurio sudėtyje yra Si-OH, yra 4-12 / m ㎡, o vienodas paskirstymas, 1 molsilaninis jungiamasis agentas gali padengti apie 7500 m2 pagrindo. Sileano jungiamasis agentas su daugybe hidrolizuojamų grupių gali turėti įtakos skaičiavimo tikslumui dėl savo kondensacijos reakcijos. Jei matrica apdorojama Y3SiX, galima gauti monomolekulinio sluoksnio aprėptį, atitinkantį apskaičiuotą reikšmę. Tačiau, kadangi Y3SiX yra aukštos kainos ir blogo atsparumo hidrolizės, ji neturi praktinės vertės. Be to, Si-OH kiekis ant matricos paviršiaus taip pat priklauso nuo šildymo sąlygų.
Pavyzdžiui, normalus Si-OH kiekis yra 5,3 m ㎡, silicio pagrindas po 400 ℃ ar 800 ℃ po terminio apdorojimo, Si-OH vertė gali būti atitinkamai sumažinta iki 2,6 / m ㎡ arba <1 m=""> Priešingai, didelį Si-OH kiekį galima gauti apdorojant matricą vandenilio chlorido rūgštimi. Substrato paviršių galima apdoroti šarminiu plovikliu, kad susidarytų silikono spirito atspalvis